한국표면공학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference)
- 한국표면공학회 2012년도 추계총회 및 학술대회 논문집
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- Pages.165-166
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- 2012
수소 기체와 HMDS 프리커서의 저온 PECVD공정을 통한 실리콘옥사이드 박막의 표면에너지 개질
Surface energy modification of SiOxCyHz film using low temperature PECVD by controlling the plasma process for HMDS precursor with hydrogen gas
- Lee, Jun-Seok (성균관대학교 신소재공학과, 플라즈마 나노 신소재 연구소) ;
- Jin, Su-Bong (성균관대학교 신소재공학과, 플라즈마 나노 신소재 연구소) ;
- Choe, Yun-Seok (성균관대학교 신소재공학과, 플라즈마 나노 신소재 연구소) ;
- Choe, In-Sik (성균관대학교 신소재공학과, 플라즈마 나노 신소재 연구소) ;
- Han, Jeon-Geon (성균관대학교 신소재공학과, 플라즈마 나노 신소재 연구소)
- 발행 : 2012.11.08
초록
표면의 젖음성은 어플리케이션의 매우 중요한 점으로, 이것은 표면에너지와 표면의 조도에 의해 결정된다. 표면의 젖음성을 낮추기 위하여 저온 PECVD 공정을 통해 초소수성 박막을 만들었다.
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