Fabrication and Properties of CaMoO4:Tb Phosphor Thin films Subjected to RTA Temperatures

급속 열처리 온도에 따른 CaMoO4:Tb 형광체 박막의 제조와 특성

  • 전용일 (신라대학교 신소재공학과) ;
  • 조신호 (신라대학교 신소재공학과)
  • Published : 2012.11.08

Abstract

급속 열처리 온도의 변화가 라디오파 마그네트론 스퍼터링 방법으로 석영 기판 위에 증착된 $CaMoO_4:Tb$ 형광체 박막의 특성에 미치는 효과를 조사하였다. 형광체 박막의 결정 구조와 발광 특성은 각각 X-선 회절법과 광여기 발광 장치로 측정하였다. $500^{\circ}C$에서 열처리한 박막은 파장 영역 400-1100 nm에서 69%의 평균 투과율을 나타내었고, 열처리 온도가 증가함에 따라 박막의 평균 투과율은 감소하는 경향을 나타내었다.

Keywords