한국표면공학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference)
- 한국표면공학회 2012년도 추계총회 및 학술대회 논문집
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- 2012
Unbalanced magnetron sputtering과 Segment target을 활용한 CrZr-Si-N 박막의 미세구조와 마모특성
Microstructure and tribological properties of CrZr-Si-N films synthesized by unbalanced magnetron sputtering with Cr-Zr-Si segment target
초록
본 연구는 segment target을 사용하여 unbalanced magnetron sputtering을 활용하여 고 CrZr-Si-N 박막을 합성하고 박막의 미세구조 및 마모 특성을 연구하는데 그 목적이 있다. 박막의 Si 함량을 조절하기 위하여 각 segment target은 Cr,Zr을 일정vol% 유지하며 Si vol%만 변화하여 설계하였다. Si 함량별로 제작된 마모실험 시편의 미세구조는 XRD, FE-SEM, AFM, TEM을 통하여 분석하였으며, ball on disk type의 마모 시험기를 통해 그 마모 특성을 분석하였으며,
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