Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference (한국표면공학회:학술대회논문집)

The Korean Institute of Surface Engineering (한국표면공학회)
권호 표지

The crystallization characteristic of ZnO films deposition at low temperature by oxygen flow rate and RF power

저온공정에서 RF 파워와 산소유량에 의한 ZnO 박막의 결정성 연구

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  • 김혜란 (성균관대학교 신소재공학부, 플라즈마 나노 신소재 연구소) ;
  • 진수봉 (성균관대학교 신소재공학부, 플라즈마 나노 신소재 연구소) ;
  • 최윤석 (성균관대학교 신소재공학부, 플라즈마 나노 신소재 연구소) ;
  • 최인식 (성균관대학교 신소재공학부, 플라즈마 나노 신소재 연구소) ;
  • 한전건 (성균관대학교 신소재공학부, 플라즈마 나노 신소재 연구소)
  • Published : 2012.05.31
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Abstract

대향 타겟 스퍼터링법 (Facing Targets Sputtering)을 이용하여 저온 공정에서 ZnO 박막을 증착하였다. 이 실험에서 두 개의 타겟의 거리를 110nm로 고정하고 박막의 증착두께를 150nm로 정하였다. 산소 가스의 유량, 인가 전력을 변수로 하였을 경우 ZnO 박막의 방향성과 결정성을 XRD로 측정하고 분석하였다. 그 결과 인가전압과 산소 유량의 증가에 따라 결정성은 좋아진다.

Keywords