대기압 플라즈마를 이용한 frequency 변화에 따른 SiOx 박막 특성 변화

  • 김가영 (성균관대학교 신소재공학부) ;
  • 박재범 (성균관대학교 성균나노과학기술원) ;
  • 염근영 (성균관대학교 신소재공학부)
  • 발행 : 2012.05.31

초록

본 연구에서는 HMDS (400sccm)/$O_2$(20slm)/He(5slm)/Ar(10slm)의 가스를 사용하여 remote-type discharge와 direct-type discharge로 구성된 double discharge system을 이용하여 SiOx 박막을 증착시켰다. 특히, 본 연구는 frequency의 변화가 SiOx 박막의 특성과 plasma특성에 어떠한 영향을 미치는지 조사하였다.

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