음극 아크법으로 증착한 ZrO2/Al2O3 박막의 고온특성

High temperature characteristic of cathodic arc deposited ZrO2/Al2O3 thin films

  • 이동복 (성균관대학교 신소재공학과) ;
  • ;
  • 김선규 (울산대학교 첨단소재공학부)
  • 발행 : 2012.05.31

초록

음극 아크법으로 증착한 $ZrO_2/Al_2O_3$ 박막의 고온특성을 대기중 $600-900^{\circ}C$에서 50시간동안 노출시킨후 XRD, XPS, AES. SEM, TEM을 이용하여 분석하였다. 증착된 박막은 비정질이었고, 고온에서 가열함에 따라 점차 결정질로 바뀌었다.

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