Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference (한국진공학회:학술대회논문집)
- 2012.02a
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- Pages.162-162
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- 2012
Improvement of Depth Profiling Analysis in $Hf_xO_y/Al_xO_y/Hf_xO_y$ structure with Sub 10 nm by Using Low Energy SIMS
- Lee, Jong-Pil ;
- Park, Sang-Won ;
- Choe, Geun-Yeong ;
- Park, Yun-Baek ;
- Kim, Ho-Jeong ;
- Kim, Chang-Yeol
- 이종필 (하이닉스 반도체(주)) ;
- 박상원 (하이닉스 반도체(주)) ;
- 최근영 (하이닉스 반도체(주)) ;
- 박윤백 (하이닉스 반도체(주)) ;
- 김호정 (하이닉스 반도체(주)) ;
- 김창열 (하이닉스 반도체(주))
- Published : 2012.02.08
Abstract
Sub 100 nm의 Complementary Metal-Oxide-Semiconductor (CMOS) 소자를 구동하기 위해서는 2.0 nm 이하의