펄스드 플라즈마를 이용하여 증착한 SiN 박막 굴절률의 신경망 모델링

Neural network modeling of SiN refractive index deposited using a pulsed plasma

  • 발행 : 2011.05.19

초록

펄스드 플라즈마를 이용하여 실리콘 나이트라이드를 증착 하였다. 소스전력과 duty ratio의 변화에 따른 이온에너지와 굴절률을 실험적으로 고찰하였으며, duty ratio의 감소에 따라 굴절률이 감소하였다. 이온에너지변수의 굴절률에의 영향은 신경망 모델을 개발하여 살펴보았다.

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