TSV Chip Multi-Stacking and Filling Process using Low Temperature Oxide Bonding

저온 Oxide 본딩을 이용한 TSV 칩 다층 적층 특성 및 filling 특성평가

  • 이재학 (한국기계연구원 초정밀시스템연구실) ;
  • 송준엽 (한국기계연구원 초정밀시스템연구실) ;
  • 하태호 (한국기계연구원 초정밀시스템연구실) ;
  • 이창우 (한국기계연구원 초정밀시스템연구실)
  • Published : 2011.06.01