한국전기전자재료학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference)
- 한국전기전자재료학회 2010년도 하계학술대회 논문집
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- Pages.309-309
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- 2010
Pulsed-PECVD를 이용한 SiN 박막의 저 소스전력 $SiH_4-N_2$ 플라즈마에서의 상온 증착
Room temperature deposition of SiN at low radio frequency source power, $SiH_4-N_2$ plasma using pulsed-PECVD
- Lee, Su-Jin (Electronic Engineering, Sejong Univ.) ;
- Kim, Byung-Whan (Electronic Engineering, Sejong Univ.) ;
- Uh, Hyung-Soo (Electronic Engineering, Sejong Univ.)
- 발행 : 2010.06.16
초록
Silicon Nitride(SiN) 박막을 펄스드 플라즈마 응용화학기상법을 이용하여 저 소스전력의