Effect of thickness of GaAs buffer layer on the structural properties of CdTe films

GaAs 완충층을 사용한 CdTe박막의 성장 특성

  • Kim, Kwang-Chon (Department of Electronic Materials Center materials research center, Korea Institute of Science and Technology(KIST)) ;
  • Jung, Kyoo-Ho (Department of Electronic Materials Center materials research center, Korea Institute of Science and Technology(KIST)) ;
  • You, Hyun-Woo (Department of Electronic Materials Center materials research center, Korea Institute of Science and Technology(KIST)) ;
  • Yim, Ju-Hyuk (Department of Electronic Materials Center materials research center, Korea Institute of Science and Technology(KIST)) ;
  • Kim, Hyun-Jae (School of Electrical and Electronic Engineering, Yonsei University) ;
  • Kim, Jin-Sang (Department of Electronic Materials Center materials research center, Korea Institute of Science and Technology(KIST))
  • 김광천 (한국과학기술연구원 재료연구본부 전자재료센터) ;
  • 정규호 (한국과학기술연구원 재료연구본부 전자재료센터) ;
  • 유현우 (한국과학기술연구원 재료연구본부 전자재료센터) ;
  • 임주혁 (한국과학기술연구원 재료연구본부 전자재료센터) ;
  • 김현재 (연세대학교 공과대학 전기전자공학부) ;
  • 김진상 (한국과학기술연구원 재료연구본부 전자재료센터)
  • Published : 2010.06.16

Abstract

CdTe는 최근 적외선 검출기 개발에 응용하기 위해 활발한 연구가 진행 중인데 이는 HgCdTe(MCT)와 격자 불일치가 0.3% 이하로 대구경 단결정 MCT박막 제작이 용이하기 때문이다. 본 연구에서는 MBE 공정으로 GaAs 물질이 완충층으로 증착된 Si(100)기판을 사용하여 CdTe 물질과 Si기판간의 격자 불일치를 줄여 대면적 CdTe 단결정 박막을 얻고자 완충층의 두께별 결정성 및 표면 특성을 보았다. CdTe 박막의 증착은 Metal Organic Chemical Vapor Deposition system (MOCVD)를 이용하였고 실험결과 2nm의 GaAs 완충층이 사용된 박막에서 단결정 CdTe(400) 박막이 성장 되었으며, GaAs 완충층의 두께가 증가 함에 따라 $1{\mu}m$ 완충층에서는 다결정 박막이 성장 되었다. 본 연구결과는 Si 기판에 성장된 단결정 CdTe층을 이용 대면적 HgCdTe웨이퍼의 제조에 널리 이용 될 수 있으리라 여겨진다.

Keywords