Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference (한국전기전자재료학회:학술대회논문집)

The Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers (한국전기전자재료학회)
권호 표지

650nm IR Cut-off 필터의 제작 및 특성

  • 신광수 (한국광기술원 연구사업부) ;
  • 김진혁 (한국광기술원 연구사업부) ;
  • 기현철 (한국광기술원 연구사업부) ;
  • 김효진 (한국광기술원 연구사업부) ;
  • 고항주 (한국광기술원 연구사업부) ;
  • 김선훈 (한국광기술원 연구사업부) ;
  • 김두근 (한국광기술원 연구사업부) ;
  • 한명수 (한국광기술원 연구사업부)
  • Published : 2010.06.16
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Abstract

650nm 적외선 차단 필터를 Macleod 프로그램을 이용하여 설계하고, 이온보조증착(IAD) 장비를 이용하여 코팅한 후 투과도, 파장, 두께특성을 조사하였다. 차단필터의 증착물질은 $TiO_2$ (n=2.30) /$SiO_2$ (n=1.46) 을 사용하여 45층의 다층 박막으로 증착하였다. 코팅된 차단필터는 차단파장이 651 nm로써 평균 ${\pm}5$ nm 이내의 편차를 보였다. 420~630 nm 파장영역에서 평균 투과도는 89%이었으며, 투과도의 균일도는 약 2.12로써 매우 균일하였다. 투과도기 단파장 영역에서 감소된 것은 다층박막 증착 시 산소가 결핍된 것으로 판단된다.

Keywords