한국진공학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference)
- 한국진공학회 2009년도 제36회 동계학술대회 초록집
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- Pages.250.2-250.2
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- 2009
Infinitely high selective etching of ITO binary mask structure for extreme ultraviolet lithography (EUVL)
- 박영록 (성균관대학교, 신소재공학과) ;
- 안정호 (성균관대학교, 신소재공학과) ;
- 김진성 (성균관대학교, 신소재공학과) ;
- 권봉수 (성균관대학교, 신소재공학과) ;
- 이내응 (성균관대학교, 신소재공학과) ;
- 강희영 (인하대학교 물리학과) ;
- 서환석 (삼성전자(주))
- Park, Yeong-Rok ;
- An, Jeong-Ho ;
- Kim, Jin-Seong ;
- Gwon, Bong-Su ;
- Lee, Nae-Eung ;
- Gang, Hui-Yeong ;
- Seo, Hwan-Seok
- 발행 : 2009.02.11