한국진공학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference)
- 한국진공학회 2009년도 제37회 하계학술대회 초록집
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- Pages.411-411
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- 2009
Infinitely high selective etching of ITO to Ru in ITO binary mask structure for extreme ultraviolet lithography (EUVL) in inductively coupled $Cl_2$ /Arplasmas
- 박영록 (성균관대학교 신소재공학부) ;
- 정창룡 (성균관대학교 신소재공학부) ;
- 권봉수 (성균관대학교 신소재공학부) ;
- 안정호 (성균관대학교 신소재공학부) ;
- 김진성 (성균관대학교 신소재공학부) ;
- 허욱 (성균관대학교 신소재공학부) ;
- 박지수 (성균관대학교 신소재공학부) ;
- 이내응 (성균관대학교 신소재공학부) ;
- 강희영 (인하대학교) ;
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황보창권
(인하대학교) ;
- 서환석 (삼성전자(주))
- Park, Yeong-Rok ;
- Jeong, Chang-Ryong ;
- Gwon, Bong-Su ;
- An, Jeong-Ho ;
- Kim, Jin-Seong ;
- Heo, Uk ;
- Park, Ji-Su ;
- Lee, Nae-Eung ;
- Gang, Hui-Yeong ;
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HwangBo, Chang-Gwon
;
- Seo, Hwan-Seok
- 발행 : 2009.08.19