Infinitely high selective etching of ITO to Ru in ITO binary mask structure for extreme ultraviolet lithography (EUVL) in inductively coupled $Cl_2$/Arplasmas

• 박영록 (성균관대학교 신소재공학부) ;
• 정창룡 (성균관대학교 신소재공학부) ;
• 권봉수 (성균관대학교 신소재공학부) ;
• 안정호 (성균관대학교 신소재공학부) ;
• 김진성 (성균관대학교 신소재공학부) ;
• 허욱 (성균관대학교 신소재공학부) ;
• 박지수 (성균관대학교 신소재공학부) ;
• 이내응 (성균관대학교 신소재공학부) ;
• 강희영 (인하대학교) ;
• 황보창권 (인하대학교) ;
• 서환석 (삼성전자(주))

• Park, Yeong-Rok ;
• Jeong, Chang-Ryong ;
• Gwon, Bong-Su ;
• An, Jeong-Ho ;
• Kim, Jin-Seong ;
• Heo, Uk ;
• Park, Ji-Su ;
• Lee, Nae-Eung ;
• Gang, Hui-Yeong ;
• HwangBo, Chang-Gwon ;
• Seo, Hwan-Seok

• 발행 : 2009.08.19

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