$NH_3$와 $N_2O$ 플라즈마 처리를 한 TFT의 Hot Carrier Stress 측정 결과 특성 분석

• Lee, Won-Baek ;
• Duy, Nguyen Van ;
• Jeong, Seong-Uk ;
• Jang, Gyeong-Su ;
• Park, Hyeong-Sik ;
• Jo, Jae-Hyeon ;
• Gong, Dae-Yeong ;
• Lee, Jun-Sin

• 이원백 (성균관대학교 전자전기컴퓨터공학과) ;
• ;
• 정성욱 (성균관대학교 전자전기컴퓨터공학과) ;
• 장경수 (성균관대학교 전자전기컴퓨터공학과) ;
• 박형식 (성균관대학교 전자전기컴퓨터공학과) ;
• 조재현 (성균관대학교 전자전기컴퓨터공학과) ;
• 공대영 (성균관대학교 전자전기컴퓨터공학과) ;
• 이준신 (성균관대학교 전자전기컴퓨터공학과)

• Published : 2009.08.19

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