한국신재생에너지학회:학술대회논문집
- 2009.06a
- /
- Pages.93-93
- /
- 2009
Passivation Quality of ALD $Al_2O_3$ Thin Film via Silicon Oxide Interfacial Layer for Crystalline Silicon Solar Cells
실리콘 산화막의 두께에 따른 ALD $Al_2O_3$ 박막의 passivation 효과
-
Kim, Young-Do
;
-
Park, Sung-Eun
;
-
Tark, Sung-Ju
;
-
Kang, Min-Gu
;
- Kwon, Soon-Woo (TS Corporation R&D Center) ;
- Yoon, Se-Wang (TS Corporation R&D Center) ;
-
Kim, Dong-Hwan
-
김영도
(고려대학교 신소재공학부) ;
-
박성은
(고려대학교 신소재공학부) ;
-
탁성주
(고려대학교 신소재공학부) ;
-
강민구
(고려대학교 신소재공학부) ;
- 권순우 ;
- 윤세왕 ;
-
김동환
(고려대학교 신소재공학부)
- Published : 2009.06.25
Abstract
실리콘 태양전지의 효율 향상을 위한 노력의 일환으로 결정질 실리콘 웨이퍼 표면passivation 물질 중 Atomic Layer Deposition (ALD)을 이용하여 증착한
Keywords