한국전기전자재료학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference)
- 한국전기전자재료학회 2009년도 춘계학술대회 논문집
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- Pages.67-67
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- 2009
BCl3/Ar 혼합가스를 이용한 $Y_2O_3$ 박막의 유도결합 플라즈마 식각
Etching characteristics of $Y_2O_3$ Thin films using inductively coupled Plasma of $BCl_3$ /Ar Gas Mixtures
- Kim, Moon-Keun (Korea Univ.) ;
- Yang, Dae-Wang (Korea Univ.) ;
- Kim, Young-Ho (Korea Univ.) ;
- Kwon, Kwang-Ho (Korea Univ.)
- 발행 : 2009.04.03
초록
본 연구는 강유전체 박막의 buffer 층으로 사용되는 Yttrium oxide(