Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference (한국전기전자재료학회:학술대회논문집)
- 2009.04b
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- Pages.67-67
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- 2009
Etching characteristics of $Y_2O_3$ Thin films using inductively coupled Plasma of $BCl_3$ /Ar Gas Mixtures
BCl3/Ar 혼합가스를 이용한 $Y_2O_3$ 박막의 유도결합 플라즈마 식각
- Kim, Moon-Keun (Korea Univ.) ;
- Yang, Dae-Wang (Korea Univ.) ;
- Kim, Young-Ho (Korea Univ.) ;
- Kwon, Kwang-Ho (Korea Univ.)
- Published : 2009.04.03
Abstract
본 연구는 강유전체 박막의 buffer 층으로 사용되는 Yttrium oxide(