한국전기전자재료학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference)
- 한국전기전자재료학회 2009년도 하계학술대회 논문집
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- Pages.230-231
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- 2009
PLD 법을 이용한 고유전율, 저유전손실 BZN 박막 제작
Fabrication of High-permittivity and low-loss dielectric BZN thin films by Pulsed laser deposition
- Bae, Ki-Ryeol (Department of Nano-Engineering in Dong-Eui University) ;
- Lee, Won-Jae (Electronic Ceramics Center in Dong-Eui University) ;
- Shin, Byung-Chul (Electronic Ceramics Center in Dong-Eui University)
- 발행 : 2009.06.18
초록
펄스 레이저 층착법 (이하 PLD)은 다성분계 산화물 박막 또는 다층구조의 박막 제작에 매우 유용한 기술이다. 본 실험에서는 KrF 엑시머 레이저를 이용하여 pt on Si 기판 위에 150nm 두께의