Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference (한국재료학회:학술대회논문집)
- 2009.05a
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- Pages.26.1-26.1
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- 2009
반도체 세정액 내 용존 수소 가스가 웨이퍼 세정에 미치는 영향
- Kim, Hyeok-Min ;
- Gang, Bong-Gyun ;
- Lee, Seung-Ho ;
- Park, Jin-Gu ;
- Choe, Eun-Seok ;
- Kim, In-Jeong ;
- Kim, Bong-U
- 김혁민 (한양대학교 바이오나노공학과) ;
- 강봉균 (한양대학교 바이오나노공학과) ;
- 이승호 (한양대학교 금속재료공학과) ;
- 박진구 (한양대학교 금속재료공학과) ;
- 최은석 (실트론 기술연구소) ;
- 김인정 (실트론 기술연구소) ;
- 김봉우 (실트론 기술연구소)
- Published : 2009.05.21
Abstract
최근 반도체 세정에 있어서 지난 40년 동안 지속적으로 사용되고 있는 알칼라인 기반의 RCA 세정법은 많은 초순수 및 화학액 소모량과 세정시 불필요한 박막의 손실, 환경적인 문제로 인하여 이를 대체하고자 하는 새로운 새정액 및 세정 방법에 대한 연구가 활발하게 이루어지고 있다. 특히 초순수에 가스를 혼합하여 메가소닉을 이용한 기능수 세정은 기존 RCA 세정액의 문제점들을 해결하기 위한 세정액으로 최근 반도체 제조 공정 뿐만 아니라 Photo mask, FPD 세정 공정에서 널리 이용되고 있다. 하지만 기능수에 대한 기초적인 특성 연구와 메가소닉에 의한 세정력 변화에 대한 연구는 부족한 상태이다. 본 연구에서는 고순도의 수소가스(99.999%)를 가스 접촉기, pHasorII (Entigris, USA) 와 순환 속도의 조절이 가능한 펌프, BPS-3 (Levitronix, USA) 를 이용하여 지속적으로 초순수와 수소가스를 혼합하는 방법으로 수소수를 제조하였으며, 용존 수소 농도계, DHDI-1 (TOA-DKK, Japan)으로 수소수의 농도를 확인하였다. 0.1 MPa 압력과, 3 LPM의 수소가스 유출속도에서 최대 2.0 ppm의 수소수를 얻을 수 있었으며, 수소수의 기초 특성을 평가하기 위하여 수소 농도 변화에 따른 pH, 표면 에너지를 측정하였다. 또한 압력 변화에 따른 반감기를 측정하여 bath형태의 세정기에서 적용 가능성을 평가하였다. 수소수의 세정력은