대한전기학회:학술대회논문집 (Proceedings of the KIEE Conference)
- 대한전기학회 2009년도 제40회 하계학술대회
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- Pages.1238_1239
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- 2009
$H_2$ 플라즈마를 이용한 SPC-Si TFT의 전기적 특성 향상
Improvement of electrical characteristics on SPC-Si TFT employing $H_2$ plasma treatment
- Kim, Yong-Jin (Seoul National University) ;
- Park, Sang-Geun (Seoul National University) ;
- Kim, Sun-Jae (Seoul National University) ;
- Lee, Jeong-Soo (Seoul National University) ;
- Kim, Chang-Yeon (Seoul National University) ;
- Han, Min-Koo (Seoul National University)
- 발행 : 2009.07.14
초록
본 논문에서는 ELA poly-Si TFT보다 뛰어난 균일도를 갖고, a-Si:H TFT보다 전기적 안정도가 우수한 PMOS SPC-Si TFT의 특성을 연구하였다. SPC-Si의 계면 특성을 향상 시키기 위해
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