Proceedings of the KIEE Conference (대한전기학회:학술대회논문집)
- 2009.07a
- /
- Pages.1238_1239
- /
- 2009
Improvement of electrical characteristics on SPC-Si TFT employing $H_2$ plasma treatment
$H_2$ 플라즈마를 이용한 SPC-Si TFT의 전기적 특성 향상
- Kim, Yong-Jin (Seoul National University) ;
- Park, Sang-Geun (Seoul National University) ;
- Kim, Sun-Jae (Seoul National University) ;
- Lee, Jeong-Soo (Seoul National University) ;
- Kim, Chang-Yeon (Seoul National University) ;
- Han, Min-Koo (Seoul National University)
- Published : 2009.07.14
Abstract
본 논문에서는 ELA poly-Si TFT보다 뛰어난 균일도를 갖고, a-Si:H TFT보다 전기적 안정도가 우수한 PMOS SPC-Si TFT의 특성을 연구하였다. SPC-Si의 계면 특성을 향상 시키기 위해
Keywords