Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference (한국표면공학회:학술대회논문집)

The Korean Institute of Surface Engineering (한국표면공학회)
권호 표지

Effect of process parameters on ZnO film deposited by using remote PEALD

고밀도 원격 플라즈마 원자층 증착을 이용한 ZnO 박막에서 공정변수의 영향

  • 김대운 (군산대학교, 신소재공학과) ;
  • 추원일 (군산대학교, 신소재공학과) ;
  • 정현영 (군산대학교, 신소재공학과) ;
  • 권성구 (군산대학교, 신소재공학과)
  • Published : 2008.11.19
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Abstract

원격 초고주파 플라즈마를 이용한 원자층 박막증착 장치를 이용한 ZnO 나노박막의 전기적 광학적 특성에 미치는 공정변수의 영향을 조사하였다. 실험결과 Al 이온주입이 증가할수록 ZnO의 금지대역이 증가하여 광투과도가 향상되었으며, 5%에서 94%의 기시광 영역 투과도를 얻을 수 있었다. 기판온도가 증가함에 따라 결정성장이 향상되었으며, 원격 플라즈마 파워가 증가함에 따라 박막의 표면조도와 밀도가 증가하였다. 플라즈마를 사용한 경우, $100^{\circ}C$의 낮은 온도에서도 우수한 저항, 이동도 특성을 얻을 수 있었다.

Keywords