Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference (한국진공학회:학술대회논문집)

2008.08a
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Pages.159-159
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2008

The Korean Vacuum Society (한국진공학회)

권호 표지

Properties of $HfSi_xO_y/HfO_2$ film as a various Annealing Temperature

송유주 (성균관대학교 정보통신공학부) ;
박재경 (성균관대학교 정보통신공학부) ;
노용한 (성균관대학교 정보통신공학부)

Published : 2008.08.20

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Abstract

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