한국진공학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference)
- 한국진공학회 2008년도 제35회 하계학술대회 초록집
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- Pages.135-135
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- 2008
$200^{\circ}C$ 에서 PECVD로 증착한 실리콘질화막의 특징
- 이경수 (서울시립대학교 나노과학기술학과) ;
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김은겸
(서울시립대학교 나노공학과) ;
- 김경민 (서울시립대학교 나노공학과) ;
- 손대호 (서울시립대학교 나노과학기술학과) ;
- 김정호 (서울시립대학교 나노과학기술학과) ;
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이경민
(서울시립대학교 나노과학기술학과) ;
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한문섭
(서울시립대학교 물리학과) ;
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원성환
(서울시립대학교 나노과학기술학과) ;
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석중현
(서울시립대학교 나노과학기술학과) ;
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홍완식
(서울시립대학교 나노과학기술학과) ;
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박경완
(서울시립대학교 나노과학기술학과)
- Lee, Gyeong-Su ;
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Kim, Eun-Gyeom
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- Kim, Gyeong-Min ;
- Son, Dae-Ho ;
- Kim, Jeong-Ho ;
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Lee, Gyeong-Min
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Han, Mun-Seop
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Won, Seong-Hwan
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Seok, Jung-Hyeon
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Hong, Wan-Sik
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Park, Gyeong-Wan
- 발행 : 2008.08.20