Effects of Sputtering power and target-substrate distance on the microstructures of AlN thin films fabricated by reactive RF sputtering

  • 김부경 (성균관대학교 정보통신공학부) ;
  • 김병균 (성균관대학교 정보통신공학부) ;
  • 노용한 (성균관대학교 정보통신공학부)
  • Published : 2008.08.20