Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference (한국표면공학회:학술대회논문집)
- 2007.04a
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- Pages.122-123
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- 2007
Microstructural Characterization of TiCrAlSiN Thin Films Deposited with Various Bias Voltages
Bias voltgae에 따른 TiCrAlSiN 코팅막의 미세구조 분석
- Lee, Jae-Uk ;
- Lee, Jeong-Yong ;
- Vinh, P.V. (Dept. of Solid State Physics and Electronics, Hanoi National University of Education) ;
- Kim, Seon-Gyu
- Published : 2007.04.05
Abstract
Bias voltage를 달리하여 cathodic arc plasma 방법으로 Si 기판 위에 성장시킨 TiCrAlSiN 코팅막의 미세구조를 투과전자현미경으로 관찰하였다. -200 V에서 0 V로 bias voltage가 변화함에 따라 'nano-multilayered' 구조가 무너지면서 '주상형(columnar)'구조로 코팅막의 미세구조가 변함을 알 수 있었고, EDS line scan을 통해 multilayer의 화학적 조성 변화를 확인하였다.
Keywords