한국표면공학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference)

한국표면공학회 (The Korean Institute of Surface Engineering)
권호 표지

Pulsed DC 마그네트론 스퍼터링을 이용한 $SiN_x$ 합성

Synthesis of silicon nitride thin film using pulsed DC magnetron sputtering on polymer substrates

  • 전아람 (플라즈마 표면 기술 응용 센터, 성균관대학교) ;
  • 금민종 (플라즈마 표면 기술 응용 센터, 성균관대학교) ;
  • 신경식 (플라즈마 표면 기술 응용 센터, 성균관대학교) ;
  • 이교웅 (플라즈마 표면 기술 응용 센터, 성균관대학교) ;
  • 한전건 (플라즈마 표면 기술 응용 센터, 성균관대학교)
  • 발행 : 2007.11.12
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초록

Pulsed DC 마그네트론 스퍼터링 장치를 이용하여 Polymer 및 Glass 기판 위에 $SiN_{\chi}$ (Silicon Nitride) 박막을 합성 시키고 이들의 구조적, 광학적 특성을 조사하였다. 막두께는 100 nm로 고정하였으며, power mode 및 질소 가스 유량비를 변수로 합성하였다.

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