고 농도 대역에 Pre-Sputtering 방법 적용을 통한 High Dynamic Range SIMS Depth Profiling 구현

  • 박상원 (하이닉스 반도체(주) 연구소 분석개발팀) ;
  • 김종훈 (하이닉스 반도체(주) 연구소 분석개발팀) ;
  • 고종규 (하이닉스 반도체(주) 연구소 분석개발팀) ;
  • 박윤백 (하이닉스 반도체(주) 연구소 분석개발팀) ;
  • 이순영 (하이닉스 반도체(주) 연구소 분석개발팀)
  • Published : 2007.08.15