Diffusion of co-sputtered refractory metal films at high temperature

Co-sputter로 증착된 core rod 대체물질의 고온 확산 현상

  • 최준명 (한국과학기술원 생명화학공학과) ;
  • 송이화 (한국과학기술원 생명화학공학과) ;
  • 김희영 (한국과학기술원 생명화학공학과) ;
  • 박승빈 (한국과학기술원 생명화학공학과)
  • Published : 2007.11.06

Abstract

다결정 태양전지의 원료인 폴리실리콘을 생산하는 방법 중 하나인 지멘스 방법에서 사용되는 실리콘 코어로드를 금속 계열의 코어로드로 대체하기 위한 연구를 진행하였다. 본 연구에서는 실리콘 코어로드의 대체물질 후보로서 고융점 금속인 텅스텐, 탄탈륨, 몰리브덴을 선택하였고, co-sputtering system을 이용하여 다성분계의 박막을 실리콘 기판에 증착시켜 $800^{cdot}C$에서 $1000^{cdot}C$의 고온에서 열처리 후 박막의 형상변화 및 확산정도를 관찰하였다. 열처리 온도에 따른 박막의 형상 및 확산 정도를 관찰하기 위하여 Scanning electron microscopy (SEM), X-ray diffractometer(XRD), transmission electron microscopy(TEM), auger electron spectroscopy(AES)가 사용되었다.

Keywords