Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference (한국전기전자재료학회:학술대회논문집)
- 2007.06a
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- Pages.269-269
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- 2007
Characteristics of ITO Transparent Conductive Oxide by DC Magnetron Sputter Methode
DC 마그네트론 스퍼터를 이용한 ITO 투명도전막 특성
- Cho, Ki-Taek (HEESUNG Metal Ltd.) ;
- Choi, Hyun (HEESUNG Metal Ltd.) ;
- Yang, Seung-Ho (HEESUNG Metal Ltd.)
- Published : 2007.06.21
Abstract
최근 평판디스플레이 산업이 성장함에 따라 품질향상을 위한 연구가 활발히 진행중이며 또한, 부품 소재 개발에 박차를 가하고 있다. 대형 평판디스플레이 중 낮은 전력소모와 광시야각이 우수한 TFT-LCD가 각광받고 있다. TFT-LCD 소자의 투명전극으로 사용되기 위해서는 면저항 10~1k Ohm/sq., 광투과율 85% 이상의 특성이 요구되며 ITO(Indium Tin Oxide의 약자) 타겟을 스퍼터링한 박막이 일반적으로 사용되고 있다. 본 연구에서는
Keywords
- Indium Tin Oxide;
- Thin Films;
- Target;
- Transparent Conductive Oxide;
- DC Magnetron Sputtering;
- Flat Panel Display