Proceedings of the Optical Society of Korea Conference (한국광학회:학술대회논문집)
- 2007.07a
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- Pages.207-208
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- 2007
$Cl_2$ based Silicon Etching for Fabrication of AWG Master for embossing
엠보싱용 AWG 마스터 제작을 위한 $Cl_2$ 가스 기반의 실리콘 식각
- Kim, Bo-Sun (Optics and Photonics Elite Research Academy (OPERA)) ;
- Seong, Jun-Ho (Optics and Photonics Elite Research Academy (OPERA)) ;
- Lee, Min-U (Optics and Photonics Elite Research Academy (OPERA)) ;
- Choe, Cheol-Hyeon (Optics and Photonics Elite Research Academy (OPERA)) ;
- Lee, Seung-Geol (Optics and Photonics Elite Research Academy (OPERA)) ;
- Park, Se-Geun (Optics and Photonics Elite Research Academy (OPERA)) ;
- Lee, Il-Hang (Optics and Photonics Elite Research Academy (OPERA)) ;
- O, Beom-Hwan (Optics and Photonics Elite Research Academy (OPERA))
- 김보순 (집적형 광자기술센터, 인하대학교 정보통신공학부) ;
- 성준호 (집적형 광자기술센터, 인하대학교 정보통신공학부) ;
- 이민우 (집적형 광자기술센터, 인하대학교 정보통신공학부) ;
- 최철현 (집적형 광자기술센터, 인하대학교 정보통신공학부) ;
- 이승걸 (집적형 광자기술센터, 인하대학교 정보통신공학부) ;
- 박세근 (집적형 광자기술센터, 인하대학교 정보통신공학부) ;
- 이일항 (집적형 광자기술센터, 인하대학교 정보통신공학부) ;
- 오범환 (집적형 광자기술센터, 인하대학교 정보통신공학부)
- Published : 2007.07.01
Abstract
Keywords