한국진공학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference)
- 한국진공학회 2007년도 제32회 학술대회 초록집
- /
- Pages.125-125
- /
- 2007
The properties of low-k thin film deposited by PECVD using the mixed precursors of hexamethyldisiloxane and triethoxysilylallylethylether as the precursors
- 이성우 (성균관대학교 물리학과) ;
- 도상민 (성균관대학교 물리학과) ;
- 양재영 (성균관대학교 물리학과) ;
- 정동근 (성균관대학교 물리학과) ;
- 채희엽 (성균관대학교 화학공학과) ;
- 박건우 (서강대학교 화학공학과) ;
- 이희우 (성균관대학교 물리학과)
- Lee, Seong-U ;
- Do, Sang-Min ;
- Yang, Jae-Yeong ;
- Jeong, Dong-Geun ;
- Chae, Hui-Yeop ;
- Park, Geon-U ;
- Lee, Hui-U
- 발행 : 2007.02.06