Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference (한국전기전자재료학회:학술대회논문집)
- 2007.11a
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- Pages.462-463
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- 2007
Analysis of Electron Density of Inductively Coupled Plasma Using Neural Network
신경망을 이용한 유도결합형 플라즈마의 전자밀도 해석
- Kim, Su-Yeon (Electronic Engineering, Sejong Univ.) ;
- Kwon, Hee-Ju (Electronic Engineering, Sejong Univ.) ;
- Kim, Byung-Whan (Electronic Engineering, Sejong Univ.)
- Published : 2007.11.01
Abstract
신경망을 이용하여 반구형 유도결합형 플라즈마 장비에 대한 전자밀도의 예측모델을 개발하였다. 신경망으로는 Radial Basis function Network를 이용하였고, 신경망의 예측성능은 유전자 알고리즘을 이용하여 최적화하였다. 체계적인 모델링을 위해