집속이온빔 장치를 이용한 MgO/$MgAl_2O_4$ 다중박막의 스퍼터링 수율 측정과 이차전자 방출계수와의 관계

  • 정강원 (광운대학교 전자물리학과 대전입자빔 연구실) ;
  • 이해정 (광운대학교 전자물리학과 대전입자빔 연구실) ;
  • 정원희 (광운대학교 전자물리학과 대전입자빔 연구실) ;
  • 오현주 (광운대학교 전자물리학과 대전입자빔 연구실) ;
  • 박철우 (한국산업기술대학교 기계공학과) ;
  • 박병주 (광운대학교 전자물리학과 대전입자빔 연구실) ;
  • 최은하 (광운대학교 전자물리학과 대전입자빔 연구실) ;
  • 서윤호 (광운대학교 전자물리학과 대전입자빔 연구실) ;
  • 강승언 (광운대학교 전자물리학과 대전입자빔 연구실)
  • Published : 2006.02.01