한국표면공학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference)
- 한국표면공학회 2006년도 춘계학술발표회 초록집
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- Pages.134-134
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- 2006
$F_2/Ar$ 과 $F_2/Ar/N_2$ 리모트 플라즈마 산화막 식각에 대한 NO를 첨가효과
Effects of No addition on chemical dry etching of silicon oxide layers in $F_2/Ar\;and\;F_2/Ar/N_2$ remote plasma processing
- 발행 : 2006.04.01