Proceedings of the Korean Society Of Semiconductor Equipment Technology (한국반도체및디스플레이장비학회:학술대회논문집)
- 2006.05a
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- Pages.259-264
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- 2006
$O_2$ 플라즈마 처리에 따른 ITO 투명전도막의 특성변화
- Yu Jae-Hyeok ;
- Gong Su-Cheol ;
- Sin Sang-Bae ;
- Sin Ik-Seop ;
- Yang Sin-Hyeok ;
-
Jang Ji-Geun
;
-
Jang Ho-Jeong
- 유재혁 (단국대학교 전자컴퓨터공학과) ;
- 공수철 (단국대학교 전자컴퓨터공학과) ;
- 신상배 (단국대학교 전자컴퓨터공학과) ;
- 신익섭 (단국대학교 전자컴퓨터공학과) ;
- 양신혁 (단국대학교 전자컴퓨터공학과) ;
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장지근
(단국대학교 전자컴퓨터공학과) ;
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장호정
(단국대학교 전자컴퓨터공학과)
- Published : 2006.05.01
Abstract
ITO 투명전도막은 현재 FPD(flat panel display)소자의 전극으로 사용되고 있다. 특히 근래에 많은 연구가 진행되고 있는 유기발광다이오드(organic light emitting diode: OLED) 소자의 제작에 투명전도막으로 많은 응용이 되고 있다. ITO 를 이용한 디스플레이 소자는 ITO 의 계면 상태와 전기적 특성에 따라 그 특성이 크게 변한다. 본 연구에서는
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