전처리에 따른 $HfO_2$ MOS-Cap의 전기적 특성 평가

  • 양대준 (한양대학교 세라믹공학과 박막전자재료연구실) ;
  • 김주연 (한양대학교 정보디스플레이공학과 박막전자재료연구실) ;
  • 손영준 (한양대학교 세라믹공학과 박막전자재료연구실) ;
  • 김현철 (한양대학교 세라믹공학과 박막전자재료연구실) ;
  • 김영배 ;
  • 최덕균 (한양대학교 신소재공학부 세라믹공학과)
  • 발행 : 2006.05.19