한국재료학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference)
- 한국재료학회 2005년도 춘계학술발표대회 및 제8회 신소재 심포지엄 논문개요집
- /
- Pages.225-225
- /
- 2005
차세대 비휘발성 메모리에 중간층(AI)의 증착률에 대한 연구
Effect of Middle Al Evaporation Rate on Non-volatile and Organic Bistable Memory
- Lee, Han-Min (Hanyang University Nano SOI Process Lab.) ;
- Jeon, Young-Chul (Hanyang University Nano SOI Process Lab.) ;
- Chae, Kyo-Suk (Hanyang University Nano SOI Process Lab.) ;
- Lim, Se-Yun (Hanyang University Nano SOI Process Lab.) ;
-
Lee, Gon-Sub
(Hanyang University Nano SOI Process Lab.)
;
- Park, Jae-Gun (Hanyang University Nano SOI Process Lab.)
- 발행 : 2005.05.26