한국표면공학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference)
- 한국표면공학회 2005년도 추계학술발표회 및 workshop
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- Pages.175-176
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- 2005
Silicon 기판의 방향과 표면 roughness 변화를 통한 Atomic Layer Etching 메커니즘의 연구
The Study of Atomic Layer Etching Mechanism using Substrate Orientation of Si and Variation of Surface Roughness
- 발행 : 2005.11.04