Atomic Layer Deposition Of Lanthanum Oxide ($La_{2}O_{3}$) Thin Film on Si(100) Substrate and Electrical Characterization

  • 조상진 (고려대학교 화공생명공학과) ;
  • 박남균 (고려대학교 재료공학과) ;
  • 강동균 (고려대학교 재료공학과) ;
  • 하정숙 (고려대학교 화공생명공학과) ;
  • 김병호 (고려대학교 재료공학과)
  • 발행 : 2005.02.15