비휘발성 기억소자를 위한 Pt/$SrBi_{2}Nb_{2}O_{9}$/$Al_{2}O_{3}$/Si 구조의 특정에 미치는 $Al_{2}O_{3}$ 완층층의 효과

• Baek, Sang-Yeol ;
• Heo, Jae-Seong ;
• Tak, Seong-Ju ;
• Lee, Jeong-Seop ;
• Choe, In-Hun

• 백상열 (고려대학교 재료공학과) ;
• 허재성 (고려대학교 재료공학과) ;
• 탁성주 (고려대학교 재료공학과) ;
• 이정섭 (고려대학교 재료공학과) ;
• 최인훈 (고려대학교 재료공학과)

• Published : 2005.02.15

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