Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference (한국전기전자재료학회:학술대회논문집)

The Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers (한국전기전자재료학회)
권호 표지

Measurement of Oblique ion-induced by electric fields secondary electron emission coefficient($\gamma$) and work function ${\Phi}w$ of the MgO protective layer in plane structure AC-PDPs

면방전 구조의 AC-PDP에서 전기장에 의해 기울어진 이온빔에 의한 MgO 보호막의 이차전자방출계수 ($\gamma$)와 일함수 (${\Phi}w$) 측정

  • Lee, H.J. (PDP Research Center, Department of Electrophysics, Kwangwoon University) ;
  • Son, C.G. (PDP Research Center, Department of Electrophysics, Kwangwoon University) ;
  • Yoo, N.L. (PDP Research Center, Department of Electrophysics, Kwangwoon University) ;
  • Han, Y.G. (PDP Research Center, Department of Electrophysics, Kwangwoon University) ;
  • Jung, S.H. (PDP Research Center, Department of Electrophysics, Kwangwoon University) ;
  • Lee, S.B. (PDP Research Center, Department of Electrophysics, Kwangwoon University) ;
  • Lim, J.E. (PDP Research Center, Department of Electrophysics, Kwangwoon University) ;
  • Lee, J.H. (PDP Research Center, Department of Electrophysics, Kwangwoon University) ;
  • Song, K.B. (PDP Research Center, Department of Electrophysics, Kwangwoon University) ;
  • Oh, P.Y. (PDP Research Center, Department of Electrophysics, Kwangwoon University) ;
  • Jung, J.M. (PDP Research Center, Department of Electrophysics, Kwangwoon University) ;
  • Ko, B.D. (PDP Research Center, Department of Electrophysics, Kwangwoon University) ;
  • Moon, M.W. (PDP Research Center, Department of Electrophysics, Kwangwoon University) ;
  • Park, W.B. (PDP Research Center, Department of Electrophysics, Kwangwoon University) ;
  • Choi, E.H. (PDP Research Center, Department of Electrophysics, Kwangwoon University)
  • 이혜정 (광운대학교 PDP연구센터) ;
  • 손창길 (광운대학교 PDP연구센터) ;
  • 유나름 (광운대학교 PDP연구센터) ;
  • 한용규 (광운대학교 PDP연구센터) ;
  • 정세훈 (광운대학교 PDP연구센터) ;
  • 이수범 (광운대학교 PDP연구센터) ;
  • 임정은 (광운대학교 PDP연구센터) ;
  • 이준호 (광운대학교 PDP연구센터) ;
  • 송기백 (광운대학교 PDP연구센터) ;
  • 오필용 (광운대학교 PDP연구센터) ;
  • 정진만 (광운대학교 PDP연구센터) ;
  • 고병덕 (광운대학교 PDP연구센터) ;
  • 문민욱 (광운대학교 PDP연구센터) ;
  • 박원배 (광운대학교 PDP연구센터) ;
  • 최은하 (광운대학교 PDP연구센터)
  • Published : 2005.05.13
Download PDF
⟨ Previous Next ⟩

Abstract

현재 널리 상용되어 있는PDP는 3전극 변방전형이다. 3전극 면장전형 PDP는 주방전이 유전체 아래에 서로 평행하게 위치하고 있는 ITO투명전극 사이에서 발생한다. 따라서 방전시의 전기장은 MgO 보호막 위에서 아치형태로 형성되게 된다. 플라스마 방전 시 전자에 의해 이온화된 이온 입자들은 전기장에 의해 그 방전경로가 정해지게 된다. 물론 전기장은 표면에서 수직이지만 전기장에 의해 가속되어진 이온입자들은 MgO 보호막에 기울어져서 입사하게 된다. 따라서 플라스마 방전시의 이온들의 MgO 보호막으로의 입사각은 매우 다양하다. $\gamma$-FIB (Focused ion beam) 시스템은 이온입사에 의한 물질의 이차전자방출계수 측정에 효과적인 장비이다. 본 실험은 이러한 $\gamma$-FIB 시스템을 이용하여 다양한 각도로 입사하는 이온빔에 의한 MgO 보호막의 이차전자방출계수를 측정하였다. 또한 이온화 에너지가 다른 여러 종류의 불활성 기체를 사용하여 이온의 입사하는 각도에 따른 MgO 보호막의 일함수를 측정하였다. 이온빔의 입사각은 각각 $0^{\circ}$, $10^{\circ}$, $20^{\circ}$, $30^{\circ}$로 변화시키면서 이차전자방출계수 및 일함수를 측정하였다. 이러한 실험을 통해 입사각이 클수록 이차전자방출계수는 증가하고 일수는 감소하는 것을 확인 할 수 있었다.

Keywords