한국전기전자재료학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference)
- 한국전기전자재료학회 2005년도 하계학술대회 논문집 Vol.6
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- Pages.466-467
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- 2005
RF sputter로 증착된 ZnO:Al 박막의 Rapid Thermal Annealing 처리에 따른 구조개선 및 전기적 특성
Structural evolution and electrical property of RF sputter-deposited ZnO:Al film by rapid thermal annealing process
- 박경석 (경성대학교 신소재공학과) ;
- 이규석 (경성대학교 전기전자공학과) ;
- 이성욱 (경성대학교 전기전자공학과) ;
- 박민우 (경성대학교 신소재공학과) ;
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곽동주
(경성대학교 전기전자공학과) ;
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임동건
(충주대학교 전자공학과)
- Park, Kyeong-Seok (KyungSung University) ;
- Lee, Kyu-Seok (KyungSung University) ;
- Lee, Sung-Wook (KyungSung University) ;
- Park, Min-Woo (KyungSung University) ;
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Kwak, Dong-Joo
(KyungSung University) ;
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Lim, Dong-Gun
(ChungJu University)
- 발행 : 2005.07.07
초록
Al doped zinc oxide films (ZnO:Al) were deposited on glass substrate by RF magnetron sputtering from a ZnO target mixed with 2 wt%