Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference (한국전기전자재료학회:학술대회논문집)
- 2005.07a
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- Pages.466-467
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- 2005
Structural evolution and electrical property of RF sputter-deposited ZnO:Al film by rapid thermal annealing process
RF sputter로 증착된 ZnO:Al 박막의 Rapid Thermal Annealing 처리에 따른 구조개선 및 전기적 특성
- Park, Kyeong-Seok (KyungSung University) ;
- Lee, Kyu-Seok (KyungSung University) ;
- Lee, Sung-Wook (KyungSung University) ;
- Park, Min-Woo (KyungSung University) ;
- Kwak, Dong-Joo (KyungSung University) ;
- Lim, Dong-Gun (ChungJu University)
- 박경석 (경성대학교 신소재공학과) ;
- 이규석 (경성대학교 전기전자공학과) ;
- 이성욱 (경성대학교 전기전자공학과) ;
- 박민우 (경성대학교 신소재공학과) ;
- 곽동주 (경성대학교 전기전자공학과) ;
- 임동건 (충주대학교 전자공학과)
- Published : 2005.07.07
Abstract
Al doped zinc oxide films (ZnO:Al) were deposited on glass substrate by RF magnetron sputtering from a ZnO target mixed with 2 wt%