Proceedings of the Korean Society Of Semiconductor Equipment Technology (한국반도체및디스플레이장비학회:학술대회논문집)
- 2005.09a
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- Pages.78-82
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- 2005
Pulse Plasma Assisted Atomic Layer deposition 장치의 제작과 특성
Abstract
펄스 플라즈마 원자층 증착 방법 (PPALD : Pulse Plasma Atomic Layer Deposition)을 이용하여 삼원계 박막인 W-C-N 박막을 ILD layer인 TEOS 위에 제조하였다. 실험은
Keywords