한국산학기술학회:학술대회논문집 (Proceedings of the KAIS Fall Conference)

한국산학기술학회 (The Korea Academia-Industrial cooperation Society)
권호 표지

통합화된 반도체 공정 시뮬레이션 환경 구축에 관한 연구

A Study of Semiconductor Process Simulation Framework

  • 이준하 (상명대학교 컴퓨터시스템공학전공 정보디스플레이연구소) ;
  • 이홍주 (상명대학교 컴퓨터시스템공학전공 정보디스플레이연구소)
  • Lee Jun-Ha (Information Display Research Center, Dept. of Computer System, Sangmyung University) ;
  • Lee Hoong-Joo (Information Display Research Center, Dept. of Computer System, Sangmyung University)
  • 발행 : 2004.06.01
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초록

본 논문에서는 반도체 공정 시뮬레이션을 위해 산화, 확산 및 이온 주입 공정을 모델링하고, 효율적인 실행과 상호 연관된 연속 공정의 시뮬레이션이 가능하도록 통합화된 환경을 구축하였다. 점성적 스트레스 모델을 이용한 산화 공정은 유속-압력 알고리즘과 경계요소법을 이용하여 안정된 해를 얻었으며, 선확산과 산화중배 현상이 포함된 확산 공정은 전진해법과 유한요소법을 이용하였다. 또한 이온주입 공정은 TRIM을 기본으로 다양한 공정 조건에 대한 모델이 추가된 몬테카를로 방법을 사용하였다. 편리한 사용자 입력 인터페이스와 그래픽적 출력을 제공하고, 윈도즈의 API함수를 이용하여 PC상에서도 적은 메모리로도 빠른 결과를 얻을 수 있도록 하였으며, 객체 지향적인 모듈화로 타 시뮬레이터와의 호환성이 가능하도록 구성하였다.

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