Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference (한국재료학회:학술대회논문집)
- 2004.05a
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- Pages.57-57
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- 2004
Strain Relaxation of $Si_{0.77}Ge_{0.23}$ on Si(100) by Oxide Capping and Thermal Annealing
산화막 형성과 열처리를 이용한 $Si_{0.77}Ge_{0.23}$ 박막의 격자 이완
- Kim, Hyeon-U ;
- Hong, Seok-Won ;
- Bae, Deok-Gyu ;
- Song, Seok-Chan ;
- Choe, Seok ;
- Jeong, Seung-Hun ;
-
Yun, Eui-Jun
- 김현우 (서울대학교 재료공학부) ;
- 홍석원 (서울대학교 재료공학부) ;
- 배덕규 (서울대학교 재료공학부) ;
- 송석찬 (서울대학교 재료공학부) ;
- 최석 (서울대학교 재료공학부) ;
- 정승훈 (서울대학교 재료공학부) ;
-
윤의준
(서울대학교 재료공학부)
- Published : 2004.05.14
Abstract
Keywords