Effect of the Orientation on $H_2$ Sensitivity in $TiO_2$ Thin Films Deposited by R.F. Magnetron Sputtering

R.F. Magnetron Sputtering 법으로 증착한 $TiO_2$박막의 결정 방향성이 $H_2$ 감응도에 미치는 영향

  • 문원택 (서울대학교 재료공학부) ;
  • 홍성현 (서울대학교 재료공학부) ;
  • 전윤기 (서울대학교 재료공학부)
  • Published : 2003.10.17