An Study on the Etching Characteristics of Er Doped Optical Waveguide Films using Inductively Coupled Plasma Etching

유도결합 플라즈마(ICP)를 이용한 Er 첨가된 광도파막 식각 특성 연구

  • 어재호 (한양대학교 세라믹공학과) ;
  • 송명곤 (한양대학교 세라믹공학과) ;
  • 신동욱 (한양대학교 세라믹공학과)
  • Published : 2003.10.17